Arutelu isepuhastuva peegeldumisvastase filmi uurimise edenemise üle

Peegeldusvastast kilet, mida tuntakse ka peegeldumisvastase kilena, kasutatakse peamiselt materjali pinnal peegeldunud valguse vähendamiseks ja ülekanduva valguse suurendamiseks. See on paljude rakendustega kattekile, mida on laialdaselt kasutatud igapäevaelus, elektroonikas, tööstuses, astronoomias, sõjaväes. Ja muud väljad. Traditsiooniline puhastusmeetod on kasutada pindaktiivset ainet, mis mitte ainult ei halvenda keskkonnareostust, vaid peab ka korduma, mis nõuab palju tööjõudu, rahalisi vahendeid ja materiaalset ressurssi. Seetõttu on viimastel aastatel suurt tähelepanu pööratud isepuhastuvate peegeldusvastaste kilede uurimisele ja arendamisele ning isepuhastuvate omadustega peegeldusvastaste kilede ja suure efektiivsusega valmistamine on muutunud nõudluseks tehnoloogilise arengu järele.

Põhimõtte tutvustus. (1) Peegeldumise vältimise põhimõte, et peegeldunud valguse vähendamiseks ja valguse suurendamiseks, võib substraadi pinnale kanda sobiva paksuse ja murdumisnäitajaga kilekihi ning peegeldusvastane toime on peamiselt hävitamise teel, peamiselt filmiga. Sellest tulenev häire kõrvaldab peegeldunud valguse ja suurendab valguse läbilaskvust. (2) Isepuhastuv põhimõte, hüdrofiilsuse mõttes, on materjali pinnal olevate veepiisade kontaktnurk nullilähedane. Kui vesi puutub kokku materjaliga, levib see kiiresti pinnale, moodustades ühtlase veekile, mida saab eemaldada veekile gravitatsiooni langusega. Värvimine, et saavutada isepuhastuv toime; hüdrofoobsuse mõttes põhineb põhimõte "lootosefekt", lootose lehe isepuhastuv toime on õhukihist, nibust ja pinnal olevast vahakihist koosnev peenstruktuur. Töötlemata peenstruktuur võib suurendada veepiisade kokkupuutenurka materjali pinnal, muutes veepiisad kergesti välja ja veepiiskud eemaldavad materjali pinnale rullimisel tolmu ja saasteained, saavutades seeläbi iseenesest puhastamise mõju.

Üldine materjal isepuhastuvatele peegeldusvastastele filmidele. (1) Titaandioksiidi kasutatakse laialdaselt isepuhastuva filmi materjalina fotokatalüütilise, foto-superhüdrofiilse ja madala hinna tõttu, eriti nanomõõtmeliste pulbrite ja kilede väljatöötamisel, nii et TiO2 kasutamine on saadud. Edendamine. Kuid TiO2 kile suure suuruse tõttu on murdumisnäitaja suhteliselt kõrge, tavaliselt vahemikus 2,2 kuni 2,7, mis suurendab läbipaistva substraadi pinna peegeldumist. Seetõttu kasutavad teaduslikud uurijad TiO2 kile murdumisnäitaja vähendamiseks erinevaid protsesse. Aastal kasutasid Wang Jianwu ja teised SiO2 / TiO2 kahekihilise peegeldumisvastase kile valmistamiseks sool-geeli meetodit, millel on suur läbilaskvus nähtava valguse vahemikus 97,2% ja kile kontaktnurgast pärast ultraviolettkiirguse kiirgus on lähedal 0 ° -le. Tal on hea isepuhastuv vara. (2) Praegu on laialdaselt uuritud ränidioksiidi, millel on suurepärased omadused, nagu madala murdumisnäitaja (murdumisnäitaja umbes 1,3), odavate elektriliste omaduste, kõrge keemilise stabiilsuse, happe ja leelise korrosioonikindluse, ning seda kasutatakse laialdaselt ka ümberpööramiseks. . Üks membraane. Tänapäeval uurivad ja ehitavad paljud teadlased SiO2 peegeldusvastast kilet "lehtefektiga". Wei-Lun Min et al. valmistanud tellitud mikrokumerad ränidioksiidi kuusnurkse osakeste massi struktuuri tsentrifuugimise ja söövitamisega. See suurendab nähtava valguse läbilaskvust materjali pinnal ja kontrollib kontaktnurka, kontrollides söövitamisaega, et muuta see isepuhastuvaks.

Uurige edusamme isepuhastuva peegeldumisvastase kilega. Enesepuhastuva peegeldumisvastase filmi uurimistöös on paljud kõrgekvaliteedilised teadustöötajad andnud väljapaistvaid panuseid ja teinud teatud saavutusi. 2013. aastal kasutati kirjanduses laminaattehnoloogiat (LBL), et valmistada laialdase lainepikkusega peegeldusvastane ja ultra-topelt-erinevus film, mis koosneb nanoosakestest, õõnsatest nanosfääridest ja nano-lehtedest klaasalusel. Kuigi teadlased on võtnud enesepuhastavate omadustega peegeldusvastaste kilede ehitamiseks erinevaid meetmeid, piirdub suurem osa teadustöö laboratooriumi uurimistööst ja ei sobi suurte tootmismeetodite jaoks. Seega on tegelikuks tootmiseks ja rakendamiseks endiselt suured võimalused ja väljakutsed: esiteks on mehaanilisus halb; teiseks on kulud kõrged ja skaala väike. Enamus puhastusomadustega valmistamisprotsesse on tänapäeval seotud keerukate protsessidega, karmimate valmistamiskeskkondadega, kallis reaktiivid ja seadmed jne. On kallid ja sobivad ainult väiksematele substraatidele või spetsiifilistele substraatmaterjalidele. , skaala on väike.

Isepuhastuv peegeldumisvastane film. Selline piiratud kestvus ja suured kulud võivad takistada selliste isepuhastuvate omadustega peegeldavate kilede kasutamist ja arendamist. Tulevikus tõmbavad teadlaste tähelepanu rohkem järgmised uurimissuunad: 1Kui praegused täiustatud analüütilised vahendid ja töövahendid ning teoreetilised arvutuslikud tasemed, näitab rohkem uurimistegevus seost filmi koostise, struktuuri, pinnaomaduste ja filmimehhanismi vahel. Ehitus; 2 tugevate ja vastupidavate isepuhastuvate peegeldusvastaste kilede pinna struktuuri ehitus on endiselt teadustöö keskmes, muidugi tuleb arvesse võtta ka keskkonnategureid; 3 uut materjali ja täiustatud kattetehnoloogia rakendusi võib samuti laiendada isepuhastuvate peegeldusvastaste kilede kasutamist.